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真空烧结炉的用途:
适用于电子陶瓷、玻璃、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材料在惰性气氛环境下进行烧结。
真空烧结炉的性能特点:
1.该真空烧结炉设备为实验室常用的周期式实验设备。
2.该回转炉设备为动态煅烧,加热炉管可规律旋转,物料在炉内受热均匀,无生烧过烧现象。
3.真空烧结炉炉体采用可开启式结构,双层炉壳,可实现空气循环隔热;采用优质碳钢表面除锈并静电喷塑,符合国际实验室标准。
4.炉管采用进口耐热合金(该炉配置非金属内胆),高温烧结无挥发物,安全环保,符合国际行业标准。
5.加热元件采用优质含钼电阻丝,硅碳棒,硅钼棒等加热元件,根据炉膛大小功率合理布棒,炉温均匀性良好。
6.温度控制采用PID模式,当仪表程序设定完成后,只要按下运行按钮,接下来的升温及降温工作都会自动完成,无需人工等待。
7.本机对于工作中的超温情况会发出报警信号,并自动完成保护动作。
8.该设备为多点测温,控制面板上设有电源指示灯和加热指示灯,可随时视察设备工作状态。
9.该设备可配合真空泵后可以抽负压,压升率不高于一个固定的值。