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真空烧结炉主要用于半导体元器件及电力整流器件的烧结工艺,可进行真空烧结,气体保护烧结及常规烧结,是半导体专用设备系列中一种新颖的工艺装备,它设计构思新颖,操作方便,结构紧凑,在一台设备上可完成多个工艺流程。亦可用于其他领域内的真空热处理,真空钎焊等工艺。
氢气炉按结构可分为立式及卧式两种,其中立式又分为钟罩升降式与底部托盘升降式。炉体均采用水冷夹壁结构,外层为碳钢,内层为优质不锈钢。卧式系列为单开门结构、外加热方式。
放电等离子烧结是将金属、陶瓷等粉末装入模具内,利用上、下模冲及通电电极将特定烧结电源和压制压力施加于烧结粉末,经放电活化、热塑变形和冷却而完成,是制取高性能材料的一种粉末冶金烧结技术。